イオンスパッタ装置　真空デバイス製　MSP-1S-[M221221A05]

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メーカー：真空デバイス　型式：MSP-1S

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試料室：内径120mmｘ高65mm（硬質ガラス）
試料台：直径50mm（フローティング方式）
電極－試料台間隔：35mm
永久磁石内蔵マグネトロン型ターゲット電極　
この装置は貴金属薄膜コーティング用で二次電子の発生効率を向上させるのに適した装置です。マグネトロンターゲット電極による低電圧放電に加えて、試料台をフローティング方式にすることにより、電子線流入による試料損傷を軽減しております。
各種デバイスの電極膜／反射膜作製／サンプル表面親水化処理／PDMS表面処理

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キーワード（メーカー）サンユー電子・JEOL・真空デバイス・日立・アルバック・アネルバ・昭和真空
キーワード（品名）プラズマアッシャー・エッチング・イオンミリング・薄膜・スパッタ・アッシング・表面処理