半導体製造装置
半導体製造装置全般、電子デバイス製造装置全般
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紫外線照射機 – UVオゾン洗浄装置 テクノビジョン UV-31…
紫外線オゾン洗浄装置 - UV-O₃洗浄装置 - UV照射機メーカー:テクノビジョン 型式:UV-312照射範囲:308mm x 308mmUV(紫外…
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イオンスパッタ装置 JEOL製(サンユー電子)型式:JFC-1500-[M2…
メーカー:JEOL(サンユー電子) 型式:JFC-1500この装置は、試料表面に白金などの金属をスパッタリングする。コーティング…
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マイクロ波電源 アドテック製 ARP Series-[M230622A04]…
メーカー:AD-TECH(アドテック) 型式:APR Series高周波電源/RFプラズマ電源/マグネトロン電源/パルス電源半導体製造や…
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マイクロ波電源 IDX製 IMG-2503S-[M230622A03]
メーカー:IDX(現AD-TECH) 型式:IMG-2503S高周波電源/プラズマ電源/マグネトロン電源/パルス電源半導体製造や液晶製造…
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イオンスパッタ装置(成膜装置)日立製 E-1020-[M221221A04]…
メーカー:日立 型式:E-10202 極対向電極とターゲットの両用をそれぞれ独立したチャンバーで製膜が可能。スパッタリング装…
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スパッタ装置 – オートファインコーター 日本電子製(JOEL)…
オートファインコーター(AUTO FINE COATER)_JOEL_JFC-1600
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イオンミリング装置 日立製(HITACHI)E-3500
メーカー:日立(HITACHI) 型式:E-3500未来産業技研ではイオンミリング装置のSDGsに積極的に取り組んでいますイオン源:ア…
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ターボ分子ポンプ PFEIFFER SplitFlow 290/TC110
ターボ分子ポンプ ハイブリッドベアリングシステムステージ型ロータースタック(2)/モジュール式排気ステージ(2)各ステ…
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エリプソメーター 溝尻光学工業 DVA-36L3
分光エリプソメーター 楕円偏光解析装置 エリプソメーカー:溝尻光学工業 型式:DVA-36L3測定波長:632.8nm(He-Neレーザ…
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ローラーラビング装置 プレマテック製 RMO1-1
ラビング装置 ローラーラビング装置メーカー:プレマテック 型式:RMO1-1ラビング装置とは、液晶ディスプレイの製造工程で…
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リンサードライヤー VERSATILE ST270
リンサードライヤー スピンドライヤーメーカー:VERSATILE 型式:ST-270インチサイズ:4inchスピンドライヤーとは、半導体…
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スピンコーター ミカサ製 1H-360S
メーカー:ミカサ 型式:1H-360S電子デバイス製造装置・半導体製造装置のSDGsスピンコータとは、平滑な基材の上に塗料を均一…
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イオンクリーナー 日本電子製(JEOL)型式:JIC-410
メーカー:日本電子(JEOL) 型式:JIC-410 透過電…
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プラズマ処理装置(親水化処理装置)JEOL製(日本電子)HDT-400 [M…
メーカー:日本電子(JEOL) 型式:HDT-400処理開始から完了まで全自動処理されます。 TEM(透過電子顕微鏡)やSEM(走査電…
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ツインコーター JEOL製(日本電子)JEC-550 – [M2…
メーカー:JEOL日本電子 型式:JEC-550真空蒸着・コーター・エッチャー・スパッタリングこの装置は、元素分析用カーボンコー…
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卓上スパッタ装置 – 試料コーター JEOL – 日…
試料コーター 卓上スパッタ装置 試料作製メーカー:日本電子(JOEL)型式:MP-19010NCTR各種金属の薄膜作製を、コンパクト…
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AFM – 原子間力顕微鏡 SII(現;日立ハイテクサイエンス)…
AFM - 原子間力顕微鏡 - Atomic Force Microscopeメーカー:SII(現・日立ハイテクサイエンス) 型式:SPA-550Le-Type2SPM …
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表面研磨装置 BUEHLER MetaServ3000 (95-2900)
BUEHLER/ビューラー/MetaServ 250 ウェハ研削、ラッピング、研磨装置直径8インチまでのウェーハ研磨に対応本機は、500ナノ…
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ナノプローバー PACIFIC NANOTECHNOLOGY Nano-R …
メーカー:PACIFIC NANOTECHNOLOGY型式:Nano-R AFM 0-020-0000AFM/原子間力顕微鏡ナノプロービングとは、信頼性、性能に悪…
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引張圧縮試験機 ORIENTEC(オリエンテック)STA-1150 R…
メーカー:ORIENTEC(オリエンテック)型式:STA-1150最大荷重容量:500N 有効ストローク:550mm クロスヘッド速度:0.5~50…



