スパッタ装置 – オスミウム・プラズマコーター　日本レーザー電子　NL-OPC60N

オスミウム・プラズマコーター　導電性薄膜作製装置
メーカー：日本レーザー電子
型式：NL-OPC60N

オスミウム・プラズマコーターは、「直流グロー放電による負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた導電性薄膜作製装置です。直流プラズマCVD法（負グロー相領域内での製膜）により、導電性のオスミウム薄膜を製膜できます。直流プラズマCVD（負グロー相領域内での製膜）法を用いて、導電性オスミウム薄膜を製膜できる装置で、少量の四酸化オスミウム（OsO4）ガス/ナフタレンガス（C10H18）を導入し、グロー放電させると瞬時にしてプラズマ状態になり、陽光柱と負グロー相の領域に分かれます。この時、陰極板上の負グロー相領域内に置いた試料表面には、イオン化分子が瞬時に付着堆積して、非晶質（アモルファス）なオスミウム薄膜/プラズマ重合膜（ナフタレン）が形成されます。

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キーワード（メーカー）真空デバイス・日立・日本電子・ALS・アネルバ・アルバック・プロダクトアイ・サンユー電子
キーワード（品名）薄膜・半導体ウェハ・電子デバイス・SEM・Au・Al・CVD装置・スパッタ装置・CSD法・成膜

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