メーカー：三井電気精機 型式：TM-NP04-2型
モールドサイズ：25×25mm×6t ／ 基板(1) 4インチシリコンウェハー ／ 基板(2) 100×100×0.7t 無アルカリガラス
印加最大圧力：1kN ／ 圧力最小分解能：1N ／ 圧力印加速度：1.65μm/sec～1.65mm/sec
本装置は、超微小回路パターンなどを形成するナノインプリントを行う装置で、主に半導体の微小回路パターンの形成などに使用します。半導体分野以外に、バイオテクノロジー分野やディスプレイなどの分野、大学や研究所などの研究機関における研究や開発、生産の現場における条件や仕様に合わせた試作品を作るための使用に適しています。
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キーワード（メーカー）東レエンジニアリング・日本レーザー・クラレ・ナブテスコ・三井電気精機・日本レーザー
キーワード（品名）半導体ウェハー・パターン形成・露光装置・回路パターン・微小回路・マスクアライメント
