イオンミリング装置 – 断面ポリッシャー　JEOL – 日本電子　IB-09020CP

イオンミリング　断面試料作製装置 (CP)
クロスセクションポリッシャー
メーカー：日本電子（JEOL）　型式：IB-09020CP
イオン加速電圧：2～6kV　イオンビーム径：500μm
ミリングスピード：約100μm/h
最大試料サイズ：W20×D10×H5(mm)

本装置は、ドライ排気されたチャンバ内で、イオンビームで試料加工を行います。試料移動機構は、イオンビームに対する平行度と照射位置調整ができるため、容易に試料位置決めができます。遮蔽材に沿いイオン照射させ断面を形成させるSEM/EPMAなどの試料作製装置としての他に研究用、実験用、開発など様々な現場で活用できます。

キーワード（メーカー）：日立ハイテク・サンユー電子・伯東・セイコーフューチャークリエーション・アルバック
キーワード（品名）：スパッタ装置・エッチング装置・CVD装置・ALD装置・蒸着装置・走査型型電子顕微鏡・SEM

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