イオンスパッタ装置 日立ハイテク E-1045

イオンスパッタ装置は非導電性試料への各種金属コーティングを短時間に効率的に行える小型の成膜装置です。本機はダイオード放電マグネトロン形で、効率の良いスパッタリングができます。極部に永久磁石を内蔵させ、効率の良いグロー放電によるスパッタリングを行うことができ、優れたコーティングが行えます。

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キーワード(メーカー)真空デバイス・日立・日本電子・アルバック・サンユー電子・プロダクトアイ・ALS・アネルバ
キーワード(品名)薄膜作成・半導体ウェハ・プリント基板・SEM・CVD装置・Au膜・AL膜・Pt膜・スパッタ装置

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