反射分光膜厚測定装置 大塚電子 FE-3000 

顕微を用いた微小領域での絶対反射率の取得により、高精度な光干渉法による膜厚解析が可能な装置です。半導体分野でのパターンサンプルや、レンズやドリルのような形状サンプルの他、表面粗さや膜厚ムラのあるサンプルなど、多種多様なサンプルの膜厚・光学定数解析が可能です。紫外から近赤外域の反射光により、多層膜の膜厚測定・光学定数解析が可能な光干渉式膜厚計です。分光法の採用により、非接触・非破壊かつ高精度で再現性の高い膜厚測定ができます。

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キーワード(メーカー)日立ハイテク・フィッシャーインストルメンツ・キーエンス・アルバック・SCREEN・ミツトヨ
キーワード(品名)電子デバイス・半導体ウェハ・プリント基板・反射分光・表面検査・表面測定・パターン検査・膜厚測定

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