メーカー：日立 型式：E-10202 極対向電極とターゲットの両用をそれぞれ独立したチャンバーで製膜が可能。
スパッタリング装置はごく薄い膜を対象物の表面に均一に作製するスパッタリングを行う装置です。
真空蒸着やイオンプレーティングと同じく物理気相成長法 (PVD法) の一つで、主に半導体や液晶の成膜をはじめとしたさまざまな分野で活用いられています。また、対象物の表面を清浄化する際に用いられることもあります。
在庫状況,販売価格,詳細写真・仕様などはこちらからお問い合わせください。 メールによるお問い合わせはこちらから。
キーワード（メーカー）真空デバイス・サンユー電子・日本電子・STS・アネルバ・アルバック・プロダクトアイ
キーワード（品名）半導体ウェハー・半導体チップ・プリント基板・SEM・電子顕微鏡・COB装置・薄膜
スクロールポンプ アネスト岩田 DVSL-500CS1-[M231…
エアー吸着マット パイオニア風力機 AM-CB/PV1N-15…
自動粉体抵抗測定システム 日東精工 MCP-PD600（PD…
プラズマCVD装置（プラズマ窒化装置）ワイエス工業製…
デジタルリンクアナライザー ANDO製（安藤）<br>型…
ピエゾステージ/ドライバ/コントローラ Messtek製 …
オートグラフ（精密万能試験機）島津製作所 AGS-X, …
AOI基板外観検査装置 inspec製（インスペック）SX10…
チラー（高性能精密温調装置）HUBER製（英弘精機）UN…
恒温恒湿槽 アドバンテック製 THR040FA-[M240209A1…
