メーカー：日立 型式：E-10202 極対向電極とターゲットの両用をそれぞれ独立したチャンバーで製膜が可能。
スパッタリング装置はごく薄い膜を対象物の表面に均一に作製するスパッタリングを行う装置です。
真空蒸着やイオンプレーティングと同じく物理気相成長法 (PVD法) の一つで、主に半導体や液晶の成膜をはじめとしたさまざまな分野で活用いられています。また、対象物の表面を清浄化する際に用いられることもあります。
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キーワード（メーカー）真空デバイス・サンユー電子・日本電子・STS・アネルバ・アルバック・プロダクトアイ
キーワード（品名）半導体ウェハー・半導体チップ・プリント基板・SEM・電子顕微鏡・COB装置・薄膜
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