プラズマCVD装置(プラズマ窒化装置)ワイエス工業製-[M240517A03]

プラズマ窒化処理は、イオン窒化とも呼ばれています。真空領域で水素・窒素雰囲気中で処理部品を陰極、炉壁を陽極として電圧を印加してグロー放電を発生させ、表面に窒化層を形成させる方式です。エンジン用部品・自動車部品・プラスチック金型・電子部品等、耐摩耗性・耐腐食性が高度に要求される部品の処理に広く採用されております。

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キーワード(メーカー)アルバック・真空デバイス・日本電子工業・STS・アネルバ・昭和真空・ALS
キーワード(品名)イオン窒化・表面処理・薄膜作成・半導体ウェハー・エッチング装置・CVD・アッシャー・スパッタ装置

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