メーカー：日立（HITACHI) 型式：E-3500
未来産業技研ではイオンミリング装置のSDGsに積極的に取り組んでいます
イオン源：アルゴンガス 加速電圧：1～6kV（連続)
最大搭載試料サイズ：20（W）×12（D）×5（H）mm
試料表面に遮蔽板を配置し、遮蔽板端部と平行な試料面をイオンミリングすることにより、平坦な断面を作製できます。
応力レス加工を特長とするイオンスパッタリング現象により、機械研磨や切削時に生じやすい細かな傷や歪みを取り除くことができます。
加速電圧は1～6kVから選択できますので、鉱物などの硬い試料からダメージを受けやすい高分子試料まで、さまざまな試料の断面作製に適応できます。
試料ステージは本体から脱着できますので、試料の装着が容易に行えます。
https://www.hitachi-hightech.com/jp/about/news/2005/nr20050801.html （抜粋）
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キーワード（メーカー）サンユー電子・JEOL・真空デバイス・日立・アルバック・アネルバ・昭和真空
キーワード（品名）プラズマアッシャー・エッチング・イオンミリング・薄膜・スパッタ・アッシング・表面処理
