雰囲気可変型赤外線ランプ加熱装置
メーカー:アドバンス理工 – アルバック理工
型式:QHC-P610CP
均熱ゾーン:φ40mm×80mmL 最高温度:1200℃
雰囲気:大気、ガスフロー、真空
本機は、太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発など多くの用途で使用されます。赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ、石英の熱処理チャンバをコンパクトに装備した高速加熱・高速冷却装置です。高速加熱から低速加熱まで幅広い条件設定が可能で、多段ステップ、サイクル加熱、ガス冷却機構による高速ガスクェンチ、クーリングコントロールなどの特徴を兼ね揃えています。
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キーワード(メーカー):アドバンス理工・アルバック販売・ウシオ電機・ジャステム・プロダクトアイ・ASKSEMIX
キーワード(品名):成膜装置・スパッタ装置・CVD装置・CSD成膜装置・真空蒸着機・PVD装置・エッチャー・ポリッシャー

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