真空蒸着装置 アネルバ EVC-1701

蒸着装置は、減圧下で物質を気化させて対象物上に製膜する真空蒸着 (VD) を行う装置です。蒸着装置を用いることで、対象物上に平滑な塗膜を形成することができ、その膜厚や組成の制御をすることも可能です。蒸着装置に用いられる蒸着方法には、物質を気化させる方法によって、物理気相成長法=物理蒸着=PVDと化学気相成長法=化学蒸着=CVD)の2種類に分けられます。本機はPVD法を用いたEB蒸着機になります。

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キーワード(メーカー)真空デバイス・シンクロン・神港精機・アルバック・オプトラン・ジャパンクリエイト
キーワード(品名)半導体ウェハ・プリント基板・PVD装置・CVD装置・Au膜・AL膜・Pt膜・スパッタ装置・真空蒸着

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